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设备制造技术是商业秘密吗(韩国半导体行业陷入技术泄密风波,中国半导体设备路在何方?)

发布时间:2024-06-14 20:35:24 制造技术 158次 作者:装备制造资讯网

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5月20日傍晚,拜登抵达首尔,迅速前往附近的一家三星电子半导体工厂,总统尹锡悦和三星电子副会长李在镕陪同视察。这一行动显然不符合韩国人对半导体的洁癖要求,他们并没有穿防尘服,这或许表明双方的所谓“技术同盟”只停留在表面。

设备制造技术是商业秘密吗(韩国半导体行业陷入技术泄密风波,中国半导体设备路在何方?)

拜登离开后,韩国半导体行业再次陷入技术泄密的风波。水原地方检察厅宣布,7名涉及商业泄密的员工被移交法院,他们窃取了三星电子子公司SEMES的超临界清洗设备制造技术,赚取了巨额利润。这一事件给中国人戴上了“技术外流”的帽子,但实际情况或许并不那么简单。

SEMES是韩国最大的预处理半导体设备制造商,与三星有着密切的合作。但核心问题在于其中一名前员工,A某,他离开SEMES后没有归还技术数据,而是将关键信息出售给中国企业。虽然中国的ICRD被提及,但从其主营业务来看,与清洗设备关系不大。因此,SEMES的技术泄密更像是员工离职的个人行为,而非中国企业的策划。

值得注意的是,中国企业也被卷入这起事件。盛美上海,一家国内半导体清洗设备厂商,在6月1日回应称与此案无关。他们强调了自己的业务,与SEMES涉及的超临界二氧化碳清洗技术完全不同。

然而,从半导体清洗设备领域来看,中国企业正积极渗透这个市场。虽然清洗设备在半导体制造设备中价值较低,但由于其在芯片制造过程中的关键性,一直是半导体设备行业的门槛。盛美半导体曾帮助海力士提高了良率,赢得了客户的信任。然而,随着中国半导体产能的增长,国内企业也开始争夺市场份额,包括北方华创和至纯科技。

半导体设备行业的竞争激烈,国内企业不仅进军清洗设备领域,还在其他领域寻求发展。他们正在开发湿法刻蚀设备、无应力抛光设备等领域,以多样化业务来抵御竞争压力。

除了清洗设备,国内半导体设备企业还在离子注入设备、刻蚀设备和薄膜沉积设备等领域加速发展。他们正不断寻找新的机会,以确保在半导体设备行业中保持竞争力。

未来,国产设备的替代目标可能是二手半导体设备。随着二手设备需求的上涨,国产设备在交付上具有优势。尽管面临着挑战,但中国半导体行业从未停下前进的脚步。深入核心领域的道路困难重重,但他们正不断努力前行。

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