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制造技术与机床公章,制造技术与机床公章哪个好

发布时间:2024-06-20 07:27:03 制造技术 0次 作者:装备制造资讯网

大家好,今天小编关注到一个比较有意思的话题,就是关于制造技术与机床公章的问题,于是小编就整理了1个相关介绍制造技术与机床公章的解答,让我们一起看看吧。

有的国家大功率激光技术全球领先,应最早研发光刻机,为什么光刻机却造不好?

原因很简单,光刻机是系统工程,而不是某个配件决定一切!

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1、光刻机集百家之长缺一不可

光刻机是一项庞大的系统工程,一台光刻机有多个核心子系统,整台机器涉及到几万的配件,其中任何一个配件有问题或者说做的不好就可能产生负面影响。

我们拿光刻机高端领域霸主ASML来说,他能做到今天的地位,除了靠自身累积的技术做研发外,最重要的一点是能聚集全球各领域中顶尖的供应商为光刻机供货,比如美国的光源企业,德国蔡司的镜头,瑞士的轴承,没有这些供应商提供优质的配件,高端光刻机也是无法做成的。

2、高端光刻机绝非纯技术决定

想要做成高端光刻机也并非仅仅靠纯技术以及供应商就能成功,你还得进行对应的资本运作,将上下游企业融为利益共同体。

光刻机的三大部件:顶级的光源(激光系统)、高精度的镜头(物镜系统)、精密仪器制造技术(工作台)。一看就是小日本的活:它三项中独占光学镜头和精密制造,买个激光技术就齐活了!所以,小日本在三个高端光刻机企业中占有二家,尼康和佳能,原来的神是尼康!但荷兰阿斯美买下顶级激光企业、拉上蔡司、再拉上台积电三星等,反手又把小日本干掉了[捂脸][大笑][呲牙]

中国的激光在世界上也许属于中端或中高端水平。光学镜头属于低端及中端水平,你们谁用过国产单反相机镜头,也许就一二个人,光一,可能没什么人听说!精密制造及数控技术倒是妥妥的中低端水平!

所以,中国国产光刻机是90nm,低端水平。前几天有报导,光源及双工作台都准备验收,应该可以突破45nm向22、甚至16nm冲击!

中国只有激光技术世界第一,镜头超过德国与日本,机床也超过德国与日本,中国就能生产出世界第一的光刻机!现在不行,因为上述都对中国禁运!

题主认为大功率激光技术全球领先的国家就应该能够具备研发高端光刻机的能力。这种想法类似于让一个能够制造出最锋利的宝剑或大刀的工匠去打造一个用于微雕的雕刻刀一样。他们所在领域的长处对于另一个领域来说没有多少价值,甚至是短处。

高端光刻机说白了就是芯片业的微雕,需要在像指甲盖那么大的芯片上雕刻出几十亿、上百亿的晶体管。必须有非常精密的光源、透镜,有非常精密的机械系统。如果激光雕刻刀动一下的距离都比几十个晶体管的尺寸还要大的话,那是不可能造出高端芯片的。

对于高功率激光装置,它的长处是功率大,更适合做出更先进的激光武器或者激光切割设备,它的研究重点是如果提高激光的功率。但是做芯片所需要的并不是功率大无边,而是激光的精准切割,过大功率的激光不要说做不成高端芯片,还可能把芯片烧糊。所以两者研究的努力方向完全是两码事。

中国近几十年来在各领域的技术都在突飞猛进的发展,很多的技术都是从无到有,反而弯道超车走在了世界的前列,但是在芯片制造上却与国际先进水平差距较大,原因在于芯片制造是一个非常复杂的过程,涉及到工业的各个方面各个领域,具有非常复杂的工序和严格精密的要求。单单一个机械系统,如此微小的尺寸,需要极高的精密度,这对于材料的性能,加工的精度,机构的稳定性等各个方面都有极其严格的要求,是远远超出了一般的机械设备的要求。而激光方面需要进行精密对焦,精准切割,要求的能量不是高,而是准确聚焦。如果我们国家的高精度光刻机能够制造成功,那么在很多的工业领域都将产生领先世界的技术,很多领域都将跻身于世界领先地位。

尽管如此国家的芯片制造水平也在快速提高,上海微电子已经造出了28纳米的光刻机。相信全国上下高度重视举全国之力进行攻关,在不久的将来,尖端芯片制造技术也会被中国所掌握。以往很多的事实已经证明了这一点,越是被国外封锁的中国越能够成功。

(图片来源于网络)

我也经常关注激光技术、光刻机技术,我觉得题主的提问本身存在问题。

很多人在展会上,看到很多大功率激光设备能把几百毫米厚的钢板很容易切开,就认为这是世界第一的激光技术。

实际上这是技术上的认知错误。最先进的激光技术应当是广泛用于医疗、光电子、超硬PCD加工等领域的飞秒激光技术。

引用一个学习过的公开介绍资料,”因为飞秒级单脉冲能量已经远远超出材料的阈值,所以材料得到瞬间气化,但是因为作用于工件材料的时间极短所以气化过程中的热量来不及传导到材料周边造成热影响”。

这段关于飞秒激光的公开介绍资料,向我们表明,它最大的特点是,在要”加工”面无任何烧伤,全部气化了。精准,不会对加工面产生二次伤害。

那么,飞秒技术国、内外发展水平如何?在国外,飞秒技术已经是半个多世纪的技术了,我国刚起步。世界上,有名的飞秒激光技术在德国、瑞士、美国,他们的相关设备很成熟。

光刻机是通过曝光把图形印制到硅片上,所以光源很重要,ASML的DUV及最新的EUV光源,能产生的光源波长13.5nm,可制做7nm以下的线宽。

到此,以上就是小编对于制造技术与机床公章的问题就介绍到这了,希望介绍关于制造技术与机床公章的1点解答对大家有用。