制造商具有省级技术中心(光伏薄膜沉积设备：市场规模将破百亿，国产设备厂商开始发力)

薄膜沉积是指在基底上沉积特定材料形成薄膜，使其具有光学、电学等特殊性能。

按原理不同，薄膜沉积可分为物理气相沉积（PhysicalVaporDeposition，简称PVD）、化学气相沉积（ChemicalVaporDeposition，简称CVD）和原子层沉积（AtomicLayerDeposition，简称ALD）。

其中，光伏薄膜沉积设备主要应用于太阳能晶硅电池片的制造环节，伴随光伏电池由P型向N型的升级，TOPCon所采用的薄膜沉积设备投资占比将从25%提升至35%左右，HJT投薄膜沉积设备投资金额占比更是高达50%。招商证券预计2022年光伏薄膜沉积设备市场空间约为66亿元，2023年有望超百亿元。

1.PVD：适用于钙钛矿的多个环节

PVD主要包括真空蒸镀（VacuumEvaporation）、磁控溅射（MagnetronSputtering）、电弧离子镀（ArcIonPlating/Deposition）三种方法。其中，真空蒸镀和磁控溅射是较为常见的两种方法。

真空蒸镀法又称真空镀膜，是在真空环境中对有机发光材料加热，使之气化后粒子沉积到基片表面成膜的工艺，也是PVD技术中发展最早、应用较为广泛的镀膜技术。

从光伏电池的应用情况来看，链式多腔PVD真空镀膜设备主要应用于HJT的第三道生产工序。通过磁控溅射技术或RPD（离子反应镀膜）技术，在非晶硅钝化异质结电池正背面沉积TCO透明金属氧化物导电膜，主要为75-80nm厚的ITO氧化铟锡膜，用于纵向收集载流子并向电极横向传输，同时减少入射光学反射。

得益于蒸镀在大面积薄膜制备上具有优势，且适用于TCO玻璃基板层、空穴传输层、钙钛矿层等多项镀膜环节，有望成为钙钛矿的主流镀膜技术。

2022年11月，奥来德（688378.SH）发布公告称，拟使用超募资金4900万元投资建设新项目，其中包括2900万元的钙钛矿结构型太阳能电池蒸镀设备的开发项目。该项目将用于钙钛矿太阳能电池工艺的薄膜的制备方法和设备，打破进口依赖，实现自主可控。

磁控溅射法是在传统溅射基础上，利用磁场提高溅射效率，使入射粒子不断轰击ITO靶材，将靶材原子溅射出来并沉积到衬底表面，进而实现TCO导电薄膜的制备。该方法的优势在于设备成本低，工艺稳定、具有更快的薄膜沉积速率，而且能满足大规模产业化要求。

磁控溅射作为一种成熟的薄膜制备技术，在制备钙钛矿电池方面具备较大的应用潜力。与真空蒸镀技术相似，磁控溅射也出现在钙钛矿电池空穴传输层、电子传输层、背电极等多个环节。

此前，北京大学邹德春教授提出，通过磁控溅射制备了高质量钙钛矿薄膜，实现成分可控，无溶剂，大面积和批量生产。实验结果表明，通过磁控溅射制备的钙钛矿薄膜的功率转换效率(PCE)为6.14%。

现阶段，PVD设备的价值量较高。板硝子（日本玻璃制造商）欧洲技术中心报告显示，一条光伏用TCO镀膜玻璃的磁控溅射产线（包设备）投资约4000万美元。

相关设备厂商中，海外进程较为领先。

德国的冯·阿登纳（VonArdenne）拥有超过50年的电子束工艺经验以及40余年的磁控管技术能力，是薄膜光伏领域玻璃镀膜系统和设备的领先供应商之一；美国应用材料（