电子制造领域技术升级，电子制造领域技术升级方案

大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于电子制造领域技术升级的问题，于是小编就整理了1个相关介绍电子制造领域技术升级的解答，让我们一起看看吧。

中国28mm光刻机明年如交付，会对世界电子产品格局有什么影响？

中国28nm光刻机意义重大，表现在以下几个方面：

第一28nm光刻机只是开始，但是我们迈出第一步，就会有第二步。几年前，我国光刻机只处于90nm的技术范围，而现如今已经实现较大的突破。也许未来一二年速度更快，技术更好。达到国际先进水平甚至超越都有可能!

第二位，很多人认为28nm光刻机只能生产28nm的芯片，其实这种理解是完全错误的。28nm的光刻机通过多重曝光，就能实现更为先进的制程芯片的生产制造，不仅能生产28nm芯片外，经过多重曝光就能生产14nm、12nm，10nm等芯片。

如果有了更好的配套设施，通过多重曝光甚至可以实现7nm制程芯片生产。但是这个过程相比先进的光刻机比较繁琐，也确实不如台积电的设备。

第三，在2004年以前我们没有刻蚀机，后来中微半导体成立了，由归国博士尹志尧创建，他带领团队把刻蚀机从65nm做到现在的5nm，一直保持在世界领先水平。光刻机也会像刻蚀机一样，我们的速度会越来越快。

最后，其实对于科技的发展，我们从未被卡住过脖子，原子弹，氢弹，卫星，航空航天，航母等等。只要我们敢于拼搏。什么都不是问题!

也许三年，也许二年。但是绝对有这一天！希望这一天快点到来!加油！！！

现在电子产品的芯片制程已经达到了10纳米，7纳米正在向着5纳米和3纳米制程工艺进发。目前世界电子产品界对极紫外EUV光刻机需求较大，而对深紫外DUV光刻机的需求没那么大。说句不好听的话28纳米工艺制程已经落后了，因为它是2011年时的技术，距今已经过去了9年。即便是上海微电子将于2021年交付制程为28纳米的光刻机，那对制程工艺要求苛刻的电子产品来说影响也不大。

因为芯片的制程工艺越小，就意味着其功耗越低，性能越强，散热能力越强。就拿高通骁龙855和845处理器来说，高通骁龙855处理器采用的是7纳米制程工艺，而高通骁龙845采用的是10纳米制程工艺，但是855处理器的性能要比845强了45%，图形处理上强了20%。除了设计带来的性能提升外，其他就全靠制程工艺了。所以说，电子产品对制程工艺的追求是无止境的，越低越好。

或许，国产28纳米制程的光刻机对电子产品没有影响，但是对于其他对制程工艺要求不高的行业影响还是挺大的。如:国防工业，运营商基站芯片，工业芯片，超级计算机。只要有了28纳米制程工艺的光刻机，那么国内以上这些行业所需要的芯片就不会受制于人，完全可以实现独立自主。当然除了实现独立自主之外，还可以将以上行业芯片的性能提高一个级别。由此可知，量产28纳米制程工艺的芯片，对国内的制造业，国防工业有着重大的意义。虽说在商业应用上被国外卡脖子，但是涉及到重要的国防工业，重工业可以做到独立自主已经不错了。

在国外制裁的今天，国产28纳米制程工艺的DUV光刻机的部件全部是国产的。其重要的镜头组来自于国望光学，掩膜台应该来自国内哪个企业还不清楚，不过清华大学在2014年就制造出了工件台样机，并且指标实测达到MA2.2纳米，MSD4.5纳米，我国也是世界上第二个，掌握该技术的国家。在7年之后的2021年，国产工件台的精度在上一个台阶也没有大问题。说到DUV光源技术，我国称第二，没有哪个国家敢称第一。毕竟KBBF晶体的技术领先国际1-2代，制造出合适的光源也不存在难题。在光刻机三大重要部件都突破后，制造出28纳米制程工艺的光刻机也就顺理成章了，可以说，在11纳米制程工艺之前的技术，国内都不会被卡脖子了。

要知道，米国可以为了一己之利，全力制裁一个企业，这就让世界各国看清楚了米国的面具下藏的真实意图。我国在28纳米制程光刻机突破后，完全可以对外出售到那些害怕被制裁的国家，以打出光刻机出口的一个突破口。趁着全球各主要强国在产业上去美国化的进程，加紧研发更先进的光刻机，以实现对外出口。总体而言，国产28纳米制程工艺的光刻机，对现有的电子产品领域造不成什么影响，但是对于国内相关企业的意义是十分重大的。

我们不要只看到高端芯片的制造和市场！

用到芯片的电器太多太多了，大到冰箱彩电，小到遥控器儿童玩具等等等等！不要小看了28nm的芯片和制造研发，这是走向更先进制造工艺的必经之路！也是占有庞大市场必须要有的技术和产能！

首先那个不叫28纳米光刻机。Asml也没有28纳米光刻机。它光源的波长是193纳米。更短的波长会被介质吸收。所以没有波长193纳米以下的duv光刻机。

用193纳米的光刻机，可以最高做到7纳米的工艺。

所以半导体也不光是光刻机的问题。晶圆代工厂的工艺水平也很重要。

这个就是Duv光刻机。至于有些说它不行的可以歇歇了。上海微电子十年来累计投资只有6亿人民币，还不够买一台Euv光刻机。正因为投资力度太小，今天中国半导体产业才如此被动。不要有意无意的做了西方国家吓阻中国的帮凶。

凡是“中国永远做不出来”的东西，都是中国应该全力投入去做的东西。人家吓阻你，正说明它重要，而且可能并没有想象的那么难，正是因为中国可能会做出来，所以他们才吓阻。

最后，对产业进行指导，高瞻远瞩的话就别说了，连光刻机的性质都没搞清楚，让外行人误以为你是专家，多不好。

对我不懂的东西，我倾向于认为别人能做出来。研发从来都是有困难的，不可能一帆风顺，但只要投入够大，决心够大，一定能搞出来。

中国进口最多的类别，就是半导体。几千亿美元的级别。到第十之后，就是几十亿美元的级别了。跟国家经济规模的量级相比，可以忽略不记。

也就是说，半导体之争，就是经济领域的决战。过了这关，美国可以投降了。没有什么再能卡中国脖子，只能看着中国慢慢骑到他们脖子上拉shi撒niao。

这么重要的产业，国家不可能现在还看不清楚。所以，外行人怎么认为，根本无关紧要。倒是我们，看清未来的方向，能让自己不去做错的选择。

到此，以上就是小编对于电子制造领域技术升级的问题就介绍到这了，希望介绍关于电子制造领域技术升级的1点解答对大家有用。