ito导电膜制造技术(透明导电薄膜（ITO）玻璃)

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透明导电薄膜（ITO）玻璃的性能/FUNCTION

透明导电薄膜的种类有很多，但具有实际应用价值的还是氧化物膜占主导地位，例如氧化铟锡薄膜（Indium-Tin-Oxide，简称为ITO薄膜），ITO透明导电薄膜是用物理或化学的方法在基体表面上沉积得到的，基体材料一般采用超薄玻璃，故又称之为ITO透明导电薄膜玻璃。

ITO透明导电薄膜玻璃是国际上70年代初研制成功的一种新型材料，属信息产业领域广泛使用的电气、电子玻璃家族中的一员，在信息产业中有着重要的地位。透明导电薄膜玻璃作为平面显示器行业的上游产品，其应用面极广，不但是LCD（液晶显示器）中的关键组件，还可在其它高阶平面显示器中作为透明玻璃电极，并与民用消费产品（诸如建材、汽车、电视等）息息相关，其工艺更可进一步延伸为市场所需的任何导电玻璃的生产。

透明导电薄膜具有以下特性：

?导电性能好，电阻率可达10－4Ω﹒cm；

?硬度高、耐磨、耐化学腐蚀；

?加工性能好；

?可见光透过率高，可达85％以上；

?对紫外线具有良好的吸收性，吸收率不小于85％；

?对红外线具有良好的反射性，反射率不小于80％；

?对微波具有衰减性，衰减率不小于85％。

PART02透明导电薄膜玻璃的生产/PRODUCTION

2.1生产工艺简介

ITO透明导电薄膜玻璃的生产有三个必备条件，即：镀膜设备、ITO靶材和透明超薄玻璃（0.4－1.3mm）。ITO透明导电薄膜制备是工艺的核心技术，它可以采用多种方法，主要有有磁控溅射法（直流磁控溅射和射频磁控溅射）、真空蒸发法（电阻加热或电于束加热）、浸渍法、化学气相沉积法、喷涂法等5种工艺。目前采用较广的是直流磁控溅射法，用该工艺进行连续镀ITO膜层，具有膜层厚度均匀、易控制、膜重复性好、稳定、适干连续生产、可镀大面积、基片和靶相互位置可按理想设计任意放置、可在低温下制取致密的薄膜层、可采用合金靶反应溅射、也可采用氧化靶直接溅射等诸多优点。该工艺适用干大规模工业化生产，ITO透明导电薄膜玻璃质量好，规格品种多，耗能低。

首先备好规定厚度尺寸的（0.4－1.3mm）超薄玻璃片，预处理经去离于水洗、超声波洁净，进入真空室后，先进行SiO2镀制，然后进入ITO镀膜室镀制ITO膜，经加热固化退火后获得成品。ITO导电膜玻璃全工艺过程均在高真空状态下洁净无尘通入Ar（氩）和O2（氧）气体，经过磁控溅射作用，在玻璃基片表面沉积氧化钢锡薄膜及加热退火后而制成。

2.2生产设备

生产品质优良的ITO透明导电薄膜玻璃与选用的设备精良与否密切相关。目前日本、美国、德国等工业发达国家大多采用磁控溅射多室的直列串联式工艺装备线生产ITO玻璃。其玻璃基片架均为立式双面型，并能连续移动镀膜作业，生产工艺流程全部自动化控制。目前国内厂家采用的设备线有美国、德国、日本及我国沈阳和深圳等公司生产的装备线。1993年前，只有深圳南亚公司引进1条美国80年代的装备线，年产3万m2ITO导电薄膜玻璃。1994年沈阳真空技术研究所与深圳南亚公司合作，首次开发成功年产12万m2TD－750型自动化透明导电薄膜玻璃生产线。1995年深圳和广州两地又引进了德国和日本公司的3条ITO导电膜玻璃生产线，使全国年总产量达到40万m2。随着，在石家庄、芜湖、深圳、江苏金坛等地的国产线先后投产，以及台湾、韩国部分生产厂家将其现有的生产线转移到大陆来，我国的ITO透明导电薄膜玻璃的生产能力增长很快，2003年的产能就达到了将近1000万平方米（953万）。

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透明导电薄膜（ITO）玻璃的应用/